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持續濺射鍍膜機 SPH-2500-Ⅱ
昭和真空特續滯銷20年的SPH-2500裝備之更新換代產物。
換代后在擔當原裝備特征的根本上、接納最新科技功效使其一切機能超出了舊型機臺。

特 長

  1. 膜厚散布: 每托盤內 ±1.2%, 各盤之間 ±1.5%
  2. 形狀: W1200 × D2500 × H1440 mm, 裝置面積不変且機臺凹凸度大幅下降。
  3. 經由過程改進陰極使靶材利用效力進步到44%。

  4. "接納齒條輪搬送體例,消弭了舊機臺因滑輪打滑形成的搬送不暢景象。

  5. 進步操縱的便利性:
    報警后操縱屏上會顯現報警內容
    可對各托盤設定菜單
    最大可鍍膜10車/次

用 途

  1. 小型電子零部件的電極膜和掩護膜

裝備組成

機臺尺寸
W2500 × D1200 × H1440 毫米
組成
托盤籌辦室 / 籌辦室 / SP室
真空槽內折返體例
濺射體例
DC磁控管
陰極
5 英寸× 7 英寸, 2 組
(此中1組為高效陰極)
DC電源
800V, 3.75A (最大 1.5kW)
托盤尺寸
L350mm × H210mm
基板搬送體例
齒條輪搬送
托盤籌辦室
可安排10套托盤
排氣體系
渦輪份子泵; 2 套
施轉式油泵; 2 套

性 能

膜厚散布
每托盤內±1.2%, 托盤之間±1.5%
靶材利用效力
44 % (最大)
產能
3 分鐘 / 一濺鍍周期 (第一盤徐外)
達到壓力
籌辦室: 1.0 × 10-3 Pa以下
SP室: 1.0 × 10-3 Pa以下
排氣時辰
籌辦室: 3 分鐘內達到 2.0 × 10-2 Pa
SP室: 10 分鐘內達到 1.2 × 10-2 Pa
基板加熱溫度
150°C (最大)

※裝備規格/表面可改進或變革。
※本產物有外匯和計謀物質按照國際商業辦理體例的劃定相稱出口限定物品的環境。 因此在把符合合品拿到日本外洋的時辰拿到日本國當局的出口允許請求須要的手續。

癥狀 關健云辦好